-
广东振华科技股份有限公司广东广州分公司
主营：真空镀膜,真空镀膜设备,真空镀膜生产商 - 18011984646
广东振华科技股份有限公司广东广州分公司
主营：真空镀膜,真空镀膜设备,真空镀膜生产商
5
一、靶面金属化合物的形成由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则该化学反..
是否应该在完成之前或之后进行真空浸渍？粉末涂料，油漆，铬酸盐转化和阳极氧化是压铸零件的常用表面处理，可改善其性能或外观。在某些压铸应用中，组件还必须密封以容纳加压的流体或气体。公司使用真空浸渍法通过密封内部泄漏通道而不..
磁控溅射是一个运行模式的二级溅射。它与二，四级溅射的主要不同点；一是，在溅射的阴极靶后面设置了*磁钢或电磁铁。在靶面上产生水平分量的磁场或垂直分量的磁场，由气体放电产生的电子被束缚在靶面附近的等离子区内的特定轨道内运转；..
工件或工具表面的条件对涂层的性能有决定性影响。要想有质量良好的涂层，工件需经研磨或抛光，并针对运输进行防腐处理。一、研磨的表面不能出现浅裂纹、氧化皮或再硬化烧伤。 二、研磨期间使用的冷却液不能包含任何磺酸钙、硼或碘化合物..
真空磁控溅射镀膜设备的技术特点 真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜，实际上，这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，该工艺也特别适合用于多层膜结构的沉积，包括了光学设计、彩色膜、耐磨涂层、纳米层..
由于真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制减定的各类真空镀膜设备的行业标准(包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。..
真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等，从而获得光亮、美观、**的塑料，陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装潢装饰，灯具、家具、玩具、酒瓶..
卷绕式真空镀膜设备,包括设置有放卷装置、镀膜室和收卷装置的真空腔体,镀膜室设置有与驱动电机输出轴连接的镀膜辊,放卷装置包括一放卷辊和一主动的送料辊轮对,送料辊轮对与镀膜辊之间设置有张力释放辊,该张力释放辊是使料卷在送料辊轮对..
离子镀的原理：离子镀是在真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者**结合起来， 不仅能明显地改进了..
立式溅射镀膜设备的特点： 1、在真空条件下制备镀膜环境清洁，膜层不易受污染，可获得致密性好，纯度高，膜层厚度均匀，易于控制的涂层。 2、膜材的基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。 3、膜的附着强度高，膜层十分..
电镀和真空镀的区别有哪些？接下来让我们一起来了解一下，更方便我们犹豫选择电镀还是真空镀的时候能做出正确的判断。一、原理上的不同1、电镀：是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其他金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或..
该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体，对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求，可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置，其靶位分布可灵活调整，膜层均匀性优越，配备不同的靶材，可..